주식회사 웨코는
전문적이고 다양한 분야에 적용가능한 오존 기술을 제안합니다.
고농도 고순도 오존발생기
WECO는 한국기계연구원으로부터 반도체공정용 고농도 고순도 오존을 제조할 수 있는 금속제 디스크 형태의 방전관 제조기술(특허등록번호 10-1109552), MGDT(Micro Gab Discharge Technology)을 받았습니다. MGDT 기술을 바탕으로 우리의 독자적인 오존 발생기를 개발하였고, 해당 기계의 오존 생성 농도는 14%wt입니다.
| 원료 가스 | 산소 99.9% |
| 산소 유량 | 3 LPM |
| 오존 생성 농도 | 14%wt (209.7 g/m³), 냉각수 (18℃) |
| 냉각수 온도 | 5 ~ 25℃ (3 LPM 이상) |
| 방전관 압력 | 2bar (30psi) |
| 사용 전압 | 208 VAC(±10%) |
수처리 장치
WECO의 고농도 고순도 오존 발생기는 대용량 오존 생성이 가능한 통합 모듈식 시스템으로, 최대 12까지의 다채널로 구성되어 있습니다. 활용 분야는 고도산화공정(Advanced Oxidation Process) / 반도체 공정입니다.
| 오존 발생기 | 12개 |
| 전원 공급장치 | 최대 출력 450W, 20kHz |
| 원료 가스 | 산소 99.9% |
| 오존 생성 농도 | 1 channel 당 0 ~ 20%wt( 305.9 g/m³), 냉각수 18℃ |
| 오존 생성 효율 | 184.4 g/kWh | 냉각수 온도 | 5 ~ 20℃ (channel 당 3 LPM 이상) |
| 사용 전압 | 208 VAC(±10%), 3상 3선식 |
